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磁控濺射生產(chǎn)線(xiàn)

產(chǎn)品特點(diǎn)

技術(shù)參數

設備型號ZCJ-300(600、1200)
極限真空8×10-5Pa
腔室功能分類(lèi)進(jìn)、出樣室(1000Pa)
過(guò)渡室(0.5Pa)
緩沖室(壓力及氣氛匹配濺射室)
濺射室(0.5Pa)
濺射靶類(lèi)型矩形平面靶、圓柱旋轉靶

技術(shù)參數

樣品幅寬300、600、1200mm
常用靶材ITO、NiO2、Cu
靶基距80~120mm
鍍膜節拍≥60s
連續運行時(shí)間≥200h
片內膜厚均勻性≤±3%
片間膜厚均勻性≤±3%
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